二手 NEXX / TEL / TOKYO ELECTRON APOLLO XP #9137393 待售
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已售出
ID: 9137393
晶圆大小: 6"
优质的: 2014
PVD System configured for manual tray processing, 6"
Manual front end
Load lock degas with (1) roughing pump
Deposition chamber capacity for 5 magnetrons
lOkW power supply
(2) 8" Cryo pumps
M4 Magnetron for Au, Ti, TiW and Pt
Ni Loop Magnetron for Ni
SECS/GEM
2014 vintage.
NEXX/TEL/TOKYO ELECTRON APOLLO XP是一种用于将材料薄膜沉积在基板上的溅射设备。该系统由带泵送单元的真空室、溅射沉积材料的来源和基板支架组成。泵机设计用于将所有空气从腔室中排出到所需的真空水平,为溅射沉积过程准备环境。采用两级涡轮分子泵来帮助确保达到理想的真空水平。一旦撤离,便用氮气清洗腔室,为沉积过程提供清洁稳定的环境。溅射沉积材料的来源通常是一层薄薄的金属或合金,然后将其汽化并沉积到基板上。物料来源通常包含在腔室内的一个熔炉内,然后加热到高温使物料蒸发。一旦汽化,材料就会被磁控管源喷出,其中利用电流产生磁场。这种磁场将汽化的材料喷射出坩埚,使其喷洒过基板。工具的最后一个部件是基板支架,用于将基板固定到位,并允许材料的准确和一致的沉积。基板通常由不锈钢或铜制成的夹具固定在适当的位置。这种夹具的设计是可调的,以容纳各种底物,也便于材料的精确沉积。这三个组成部分构成了TEL APOLLO XP资产,并在结合时提供了一种有效可靠的将材料沉积到基板上的手段。该模型能够以较高的精度和可重复性沉积金属和合金材料薄膜。这使其成为广泛应用的理想工具,包括光学涂层、半导体加工和医疗设备制造。
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