二手 NOVELLUS MB2 #188659 待售

NOVELLUS MB2是一种用于工业上薄膜应用的溅射沉积设备。它利用有角度的目标电子束轰击，射程最大可达12英寸直径，因此能够在精度和精确度最高的系统中使用。通过控制电子的高能轰击，MB2能够再现与薄膜沉积过程结合时所遵循的极紧范围的详细模式。该系统还设计用于在其溅射过程窗口中纳入过程监测，如光发射光谱学，提供更快的响应时间和更好的对机制的质量控制。溅射源是为了适应各种目标而设计的。铬、铵、金、银等材料可用于大面积覆盖，为客户提供薄膜结构更具创意的应用。该源还提供对电子束电流、加速电压、源尺寸的独立控制，允许精确控制基板上的参数和薄膜轮廓。溅射室还装有一个或两个可旋转的目标，当结合创新的冷却和预调理程序时，有助于确保目标区域的质量和均匀性。该装置还配备了先进的窗口功能，可同时沉积多层薄膜。这样就无需切换目标,从而进一步提高了时间效率和过程精度。此外，该机包括一个精确控制的射频基板偏置工具开发提供均匀的覆盖和均匀的性能。偏置技术简化了复杂结构的图桉，同时也提供了实现更高材料质量和均匀性的机会。NOVELLUS MB2还提供真空资产，对压力、温度和磁控管功率进行精确监控，并具有氧化防护的氮气净化能力。该模型还提供PLC管子操作以及出口吹扫功能、内置的安全功能以及防止喷嘴破裂的保护。此外，该设备还能够在内存中保存配方，实时监测多个工艺参数，从而更容易监测和维持高产量和质量保证标准。总之,MB2溅射沉积系统设计快速、精确、可靠.通过对参数设置的控制、反应性气体的使用、多个装置窗口以及可调节的射频基板偏置，该单元被设计为提供灵活精确的沉积能力。该机的综合特性和过程控制使其成为任何先进的薄膜沉积需求的一个很好的选择。