二手 NRC / VARIAN 3117 #19408 待售
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ID: 19408
E-Beam evaporator
18" dia x 30" tall Pyrex bell jar
Implosion cage on 20" dia SS baseplate
With electromechanical hoist
TEMESCAL TIH270 E-Beam gun
ES6A E-beam power supply, 6 kW
Sloan Omni III Quartz crystal deposition monitor
Ion and 2-position thermocouple gauge
Pumping system:
NRC / VARIAN VHS6 Diffusion pump
Rated: 2400 L/s
NRC 316 Series LN2 trap
Electro pneumatic valve with sequencer
Mechanical roughing pump: 17 CFM.
NRC/VARIAN 3117溅射设备是金属和绝缘材料层物理气相沉积的综合沉积系统。它设计用于多种应用,包括用于微电子和光电器件的涂层、薄膜晶体管、磁体和其他先进结构。该装置采用双枪设计,能够在大面积上产生均匀、平滑的沉积。NRC 3117具有先进的灭弧技术,可实现卓越的过程重复性和可靠性。该技术采用均匀的离子发射锥和狭窄的电场线,防止电弧和火花的发生。它有四个独立的目标位置、先进的射频电源和控制器,以及集成的旋转运动和冷却功能,使其能够在大面积上有效地沉积统计上均匀的层。VARIAN 3117几乎与任何类型的材料兼容,包括金属、半导体、绝缘体和高k电介质。它的模块化设计允许各种基板尺寸和形状,从而能够手动或自动控制基板的形状和位置,从而获得最佳效果。其可重新加载的盒式磁带和板载清洁室有助于快速的工具重新配置和严格的过程控制。该机器还采用电子旋转控制(ECR)技术进行精密的过程控制,使源晶片和舞台位置能够精确旋转。这项技术对特定的金属、碳和其他元素产生均匀的层和氙离子束清洗。该工具还提供先进的过程监测和反馈系统,以实现自动沉积和清洁周期,并提高过程的可重复性。其循环资产和双向挡板模型防止了沉积过程中流出通量的污染和颗粒物的进入。3117溅射设备是需要高精度、高通量沉积清洁、均匀金属或介电层的新兴技术的理想解决方桉。其先进的以生产力为导向的特性使得它成为各种应用的诱人选择,从先进的微电子到医疗设备。
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