二手 OCLI M1044 #293591854 待售
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ID: 293591854
Sputtering system
Vacuum chamber with (4) sputtering sources
(4) PFEIFFER Turbo molecular pumps with power suppliers
(2) ADVANCED ENERGY Pinnacle Ion gun, 12 kW
(3) DC Engines
(3) Drives
(6) DC Power supplies: (3+3) Master (20 kW) / Slave (10 kW)
(2) MDX Sparc-LE 20, Si target: (1+1) Master / Slave
(2) MKS 647B Multi gas controllers
(3) MAGNETRON Sputter cathodes
(20) Metal holders, 18 x 139 cm
(4) Silicon targets
(3) Niobium targets
Zirconium
HONEYWELL PLC
MKS Stabil-Ion Controller
GRANVILLE PHILLIPS Series 370 Vacuum sensor
GRANVILLE PHILLIPS Vacuum gauge
MKS Mass Flow Controller (100 to 1000 SCCM)
(2) Bias voltage sources
Bias voltage suppliers
VAT Gate and actuators
(3) MDX Display
(2) Pinnacle Display
(2) Computers
Monitor
Frame
Spare parts.
OCLI M1044是一种先进的沉积设备，用于生产先进的微电子设备。该系统具有高质量溅射能力，可用于多种应用，包括光电、MEMS、集成电路（IC）生产。该设备采用高级组件,性能卓越。该机由磁控管溅射源组成，用于将材料薄膜沉积到工作基板上。该源专为优越的溅射效果而设计，目标直径在2到8英寸之间。此外，该工具还配备了温度控制装置，以确保温度在整个沉积过程中保持一致。该资产还具有可旋转基板支架和射频辅助功能，有助于确保最高质量的沉积结果。此外，M1044设计有一个处理室，能够快速和方便地安装和维护组件。这对于快速高效的生产很重要。OCLI M1044的其他特点包括沉积速率高、均匀性好、产量高、占地面积小。具有高长宽比蚀刻能力，也可用于创造纳米级特征。此外,该模型还具有高级控件,可帮助用户调整流程参数。M1044是一个先进的设备，产生高质量的产品。它的高级组件和功能使用户能够快速、精确地产生纳米级特性。这使得它非常适合多种应用，包括MEMS、高级光电子和IC生产。该系统可靠、高效,非常适合各种生产需要。
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