二手 OERLIKON / UNAXIS Clusterline 200 #293802334 待售

OERLIKON/UNAXIS Clusterline 200是一款高度先进的溅射设备，设计用于半导体、太阳能、光学涂层等多个行业的薄膜沉积。该溅射系统采用集群工具体系结构，在沉积过程中实现高吞吐量和灵活性。UNAXIS Clusterline 200以精确的薄膜厚度控制、均匀性和可重复性而闻名，使其成为大批量生产环境的理想选择。OERLIKON Clusterline 200单元的核心是集成在一个平台内的多个工艺室。这种架构允许对多个基板进行并行处理，显着提高生产率和效率。每个工艺室都配有自己独立的溅射靶和电源，使不同的材料可以同时或顺序沉积在基板上。该机还具有用于底物装卸的锁载室，确保了沉积运行之间的最小停机时间。Clusterline 200配备了最先进的溅射源，如磁控管溅射和反应性溅射，为各种材料和薄膜性能提供了广泛的沉积选择。溅射靶子通常由金属、氧化物和氮化物等材料制成，在薄膜沉积应用中具有多功能性。该工具可实现高沉积速率和对薄膜厚度、成分、结构的精确控制，满足现代薄膜技术的严格要求。此外,OERLIKON/UNAXIS Clusterline 200还包含高级工艺控制功能,例如对关键参数（如沉积速率、功耗和气体流率）的实时监控。这些功能使操作员能够优化沉积过程，从而产生具有出色均匀性和可重复性的高质量薄膜。资产还提供配方管理软件，允许用户存储和召回不同沉积配方的工艺参数，简化模型的设置和操作。在基板处理方面，UNAXIS Clusterline 200兼容各种基板尺寸和类型，包括晶圆、玻璃面板和柔性基板。该设备可同时容纳标准和定制基板尺寸,为各种生产要求提供了灵活性。此外，OERLIKON Clusterline 200还具有先进的基板加热和冷却能力，能够在沉积过程中进行精确的温度控制，以优化膜的性能和附着力。Clusterline 200 sputtering system is designed with a focus on high reliability, easily of maintenance, and safety.该装置具有坚固的真空泵、先进的等离子体诊断和自动清洁程序,以确保最佳性能和正常运行时间。维护任务（如目标更换、腔室清洁和机床校准）旨在方便用户使用,并最大限度地减少停机时间,从而最大限度地提高刀具的生产率。最后,OERLIKON/UNAXIS Clusterline 200是一种通用且先进的溅射设备,可为各种应用提供高通量的薄膜沉积功能。UNAXIS Clusterline 200具有群集工具体系结构、先进的溅射源、精确的过程控制和底物处理功能,是在需要高生产率和可靠性的生产环境中制造高质量薄膜的首选产品。