二手 OXFORD Plasmalab 400 #9409150 待售

OXFORD Plasmalab 400是一种最先进的溅射设备，用于生产半导体和薄膜器件。这种高功率系统为用户提供了广泛的高品质档次选项，包括不同的目标方向、过程配置和真空准备。Plasmalab 400配备独特的基础和高频电源，协同工作，确保溅射过程的一致性。这台机组可在高达400 kW的温度下运行，使其可用于多种过程，包括高功率电弧喷雾、标准射频溅射、脉冲直流或射频溅射以及阶梯式调谐基板加热。基本电源为溅射过程的启动和调整提供超低直流电源。这也被用于离子轰击和离子溅射蚀刻。HF电源具有400 kHz至60MHz的频率控制范围，这意味着它可以用于各种高级过程，包括阶梯调谐基板加热和脉冲射频溅射。OXFORD Plasmalab 400具有坚固的腔室设计，可以容纳四个磁控管阴极，以允许更高的功率密度和均匀性。创新的负载锁设计自动提供真空压力，最大压力可调。这使得用户可以轻松修改真空环境，修改腔室参数。该机提供了具有高级控制功能的直观用户界面，可以通过基于Web的控制平台或依赖于面向对象编程语言Python的OxR框架进行操作。此控制软件为用户提供了对等离子体参数、刀具功能和过程的完全控制。最后，Plasmalab 400包括一个内置的安全锁定资产。这提供了过程监控和联锁保护功能，以确保在操作模型时完全安全。它还配备了一个主动过程监视设备，用于监视腔室的过程参数，允许操作员在出现错误或故障时进行干预。