二手 PELCO 3 #159054 待售

PELCO 3是一种专门为等离子体蚀刻而设计的等离子体溅射设备，其中氙气是使用的溅射气源。等离子体蚀刻是利用离子轰击原理修改基板表面的过程。这个溅射系统包括一个真空室、一个气箱、一个等离子体室和一个基板级，以及几个附件。在真空室内部，引入了氙气，通过与之相连的真空泵将压力降低到真空水平。气体然后被输送到等离子体室，在那里它被射频（RF）功率激发。这种能量激发或电离气体分子，形成等离子体。等离子体使气体分子解离，在高能级产生一个原子或分子分数的氙原子。受激发的氙原子和分子高速运动，轰击目标表面，诱发物质沉积。待处理的基板放置在腔室的基板级，其表面暴露于等离子体。然后对目标表面进行溅射和蚀刻,生成薄膜层。3单元配备了几个特点，使其适合与多种应用一起使用。这些特点包括广泛的可编程参数，如压力控制、气流控制、气体消耗、气体净化、基板温度等，允许对整机进行非常精细的控制。此外，PELCO3还有一个自动检测工具，可以感应基板放在舞台上的时间，并允许相应的编程操作。它还具有内置的安全资产,设计用于在发生意外事件（如电源故障）时关闭模型,从而确保设备安全使用。3溅射系统设计方便，效果可靠。主要部件，如真空室、等离子室、基板级都是预组装的，减少了设置时间，便于维护。整个单元还无线连接，使用户可以从远程位置控制和监控机器，提高操作效率。总体而言,PELCO3等离子体溅射工具可靠性高,使用方便.它的特点和配件使得它适合广泛的应用，使得它非常适合薄膜涂层和蚀刻。