二手 PERKIN ELMER 2400-8L #39101 待售

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製造商
PERKIN ELMER
模型
2400-8L
ID: 39101
优质的: 1990
Sputtering system System: Multi-target RF-Diode sputtering system w/ 8" load-lock substrate table 6 1/2" dia. PLC controlled substrate heating for 650°C Sputter Sources 3x 8" DC-Cathodes, 1 etch station(optional 4. target) Vacuum: Leybold TurbVac450 Power Supplies: DC-Power supply, 2.5kW 1990 vintage.
PERKIN ELMER 2400-8L Sputtering Equipment是一种用于薄膜沉积的通用工具,专为精确和可重复性而设计。该系统配备了先进的特性和功能,包括直径可达8英寸的腔室尺寸、高功率目标溅射源以及先进的腔室自动化。目标和基板可以独立移动和定位,从而增强过程控制和沉积均匀性。溅射工艺具有很高的可重复性,使2400-8L成为精密、精密地沉积薄膜的理想装置。该机采用自动基板运动机构,可实现高效、可复制的效果。该工具利用射频或直流电源将薄膜溅射到基板上。这两个进程相互独立,这允许更高程度的控制和定制。该工艺的灵活性意味着不同的材料层可以相互溅射,从而产生更复杂的纳米结构。该资产采用高真空室,允许在高压下均匀沉积材料,而不会损害表面的完整性。在一个均匀的循环室内,可以达到低至4x10-6 Torr的真空水平。这允许保形层的非常精确、均匀的沉积和可靠的器件性能。可调温室设计为沉积过程提供了额外的灵活性和控制水平,使材料的应用能够不同的基板,或补偿组件的内在类型。该型号具有集成的保护屏蔽,以确保最小程度地暴露于溅射材料中。包括运行结束中断和自动基板返回功能也有助于保护设备及其部件。通过自动校准和功率平衡功能、可用的数字显示、远程访问和控制能力以及主动PFPE保护,进一步提高了系统的高性能和精度。PERKIN ELMER 2400-8L专为使用寿命和可靠性而设计,内置了多种安全功能,以及一个坚固的电子设备,可长时间可靠运行。该机器非常适合各种薄膜沉积应用,从小型中试零件到大批量制造。
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