二手 PERKIN ELMER 2400-8L #9193484 待售

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製造商
PERKIN ELMER
模型
2400-8L
ID: 9193484
Sputtering system (3) Cathodes: 8" Sputter configuration: RF/DC Load-lock Turbo pumped Table spacing: Adjustable cathode-substrate Substrate pallet diameter maximum: 6.5".
PERKIN ELMER 2400-8L是一种装有三个溅射源的溅射设备,可以有效和均匀地沉积薄层。它专为需要沉积各种材料薄层进行样品分析或制造的材料研究而设计。该系统非常适合用于辉光放电光发射光谱(GDOES)应用和非均质基板层的沉积。该装置具有8英寸直径的溅射室,配置有射频电源、13.56 MHz射频匹配网络和三个溅射源。射频电源的设计可提供高达1 kW的功率,而射频匹配网络可精确调节5至12 kV之间的电压和电流。运动系统安装在坚固的结构上,以便对样品腔内径为8.3英寸的基板进行精确和可重复的定位。三种标准的溅射源设计为适应不同的材料组合和多重磁控管配置。每个源具有1.675英寸的喷嘴直径,以极好地控制溅射组件,以及6英寸直径的不锈钢源室,可减少聚焦离子束(FIB)基板的磨损。从溅射源产生的磁场是可调的,允许独特的设计特点,提高溅射均匀性和沉积速率。还提供了三通道可调计时器,以便精确控制溅射过程。所有这些功能为沉积和可复制过程提供了出色的灵活性和精确控制。该机器安装在一个普通的钢制外壳中,设计用于所有部件的最佳访问。前面板具有功能齐全的控制/显示单元,可轻松访问流程参数和数据采集。简单明了的图形用户界面(GUI)使用户能够快速轻松地设置和监视该工具。总之,2400-8L是材料研究的理想溅射资产,需要沉积薄层进行样品分析和制造。该型号配备三个溅射源和可调定时器,用户友好,为沉积和可复制过程提供出色的灵活性和精确控制。
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