二手 PERKIN ELMER 2400-8SA #98401 待售

ID: 98401
晶圆大小: 6"
优质的: 1980
Sputtering systems, 6" (3) 8" Round RF Diode Cathodes Annular Table 21.5" O.D. Variable Speed Drive Motor Anode Cathode Spacing RF Power 1 & 2 kW Servo Match Auto Tune Load & Tune Functions RF Forward & Reflected Meters Target Selector Mode Selector Shutter full circle design Shutter position selector Auto Pump Sequencing Cryo Pumped Hoist for Sputter Head Other options available No DC bias Runs on 2 Kw Missing load lock chamber Currently installed 1980 vintage As-is, where-is.
PERKIN ELMER 2400-8SA溅射设备是一种先进的设备,用于将材料薄膜沉积在各种形状和尺寸的基板上。该系统易于使用,由于其严格控制的环境和专门设计的组件,因此能够提供卓越的效果。该装置采用高真空室设计,对1E-8 torr(1.3 x 10^-5 Pa)有效。该腔室装有用于三个独立源的单独等离子体阴极端口,以及用于插入基板的端口。阴极由钛钨合金制成,多个系统可集成,沉积时间延长。该机配备了OS-500低温高真空泵,为从薄膜到厚膜的沉积物提供了极好的高真空度。高功率溅射目标源产生的强磁场保证了基板表面的均匀粒子轰击。该工具还配备了提供特殊光束-目标相互作用和均匀膜沉积的25kV离子枪。资产的高性能数据模型允许用户监控和调整基板温度和压力、电流、电压和沉积速率等参数。这使使用者能够达到严格的沉积规格,优化薄膜特性。此外,设备还可以与附加组件集成,以实现多种溅射沉积过程,如磁控管溅射和反应性溅射沉积。2400-8SA溅射系统是薄膜和其他材料沉积的最先进的系统之一。该装置对各种参数和多种组分的严格控制允许沉积不同厚度和规格的薄膜,使用户的精确度和精确度是无法比拟的。该机还能够用于反应性溅射沉积、磁控管溅射等,使其用途极为广泛,适用于各种沉积过程。
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