二手 PERKIN ELMER 2400 #42887 待售
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ID: 42887
晶圆大小: 6"
Sputtering system, 6"
Sputters down
(3) Diameter RF targets for metals / Dielectrics, 8"
Ion / Dual TC gauge
DC Power supply
(2) RF Power supplies
(8) CTI Cryopumps
CTI 8 Cryopump with compressor
ENI OEM 12B RF Power supply, 12 kW
MATT VAC 5 kW DC Supply with pulse option
Soft etcher
LEYBOLD D30A Dual stage mechanical pump
Direct drive mechanical pump
With spinning ring holds up to wafer 6"
DC Power supply.
PERKIN ELMER 2400是一种将先进的溅射设备与直观的用户界面结合在一起的溅射设备。该系统使用直流电(DC)和射频(RF)源的组合,将导电和绝缘材料层沉积到基板上。通过改变被溅射材料的数量和种类以及目标环境,可以在玻璃、SiO2、GaP、金刚石等不同基材上产生各种薄膜类型。2400具有高功率、紧密耦合的磁控管溅射源,用于沉积具有良好附着力的高度均匀的层。该源在机械可调的底座上有独立的溅射源和栈座枪,允许源对基板传递的最佳角度。铁轨枪允许精确地输送溅射材料,在基板上均匀,可以达到8微米的尺寸。PERKIN ELMER 2400使用高精度机器人级进行基板操纵。这可以让使用者准确的移动和定位其基板,以及调整基板与源的角度和距离。这样可以确保获得最高质量的涂层,同时减少涂覆基板所需的时间。2400极易使用。其用户友好的图形用户界面(GUI)提供了一种方便的方式来控制单元参数,以及提供自动配方创建和管理。该机还配备了多种真空仪表和监视器,可以测量腔室压力和监测工艺条件。总体而言,PERKIN ELMER 2400是一种功能强大的溅射工具,可用于各种应用程序。它配备了先进的溅射源和直观的用户界面,使用户能够通过精确的控制将导电和绝缘材料层快速可靠地沉积到自己的基板上。此外,该资产还设有一个用于精确基板定位的高精度机器人平台,以及一系列用于连续过程监测的真空计和监视器。
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