二手 PERKIN ELMER 2400 #9022812 待售

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製造商
PERKIN ELMER
模型
2400
ID: 9022812
Sputtering system CTI-8 cryo pump Power supply in separate cabinet Veeco RG1000 pressure gauge MKS Baratron (4) Targets Welch mechanical pump Argon and Nitrogen are plumbed in Flows are controlled by MFCs Power is RF only Sputtered: silicon.
PERKIN ELMER 2400溅射系统是世界领先的溅射工具,为薄膜、纳米结构和基板上的多层堆栈提供精确的沉积层。它非常适合各种应用,从精密涂层到制造光电和基于MEMS的设备。它具有坚固、高通量的设计,能够在高沉积速率下实现均匀溅射,精度和精确度。该机配备了可变面积的锁载室,可容纳直径达200毫米的基板,以及能够溅射多种金属和广泛合金的多个行星目标。目标安装在获得专利的无溅射直流电源上,该电源可同时驱动最多六个配备独立射频源的目标。高压直流电源与射频发生器耦合,可在大面积上实现高度均匀的涂层,并且在目标温度高达400 °C时具有较高的沉积速率。2400具有温度相关的过程控制能力,能够沉积纳米结构、薄膜堆栈和其他质量一致且可重复的材料设备。使用分辨率± 0.1°C的高温计监测温度均匀性和可重复性。先进的射频工艺监测提供了对底物温度的实时反馈,以确保最佳的底物清洁和沉积结果。该系统还采用垂直溅射技术,采用可实现3D涂层的落地端效应器。它配有车载可编程脉冲发生器,可用于改变脉冲频率和宽度轮廓,以获得最佳涂层效果。室内的扫描电子显微镜可用于现场监测沉积过程。PERKIN ELMER 2400的设计可容纳多达九种不同的卡口安装踏板,这些踏板配备了样品装卸、基板处理和沉积所需的各种工具。该系统还具有直观的图形用户界面,并提供完整的计算机辅助制造(CAM)控制和完整的软件兼容性。2400是高性能溅射应用的理想解决方桉,可提供卓越的精度、可靠性和吞吐量。
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