二手 PERKIN ELMER 3300 ICP XL #164671 待售

ID: 164671
Spectrometer Includes: 200-240 VAC Operation Wide Wavelength 167-782 nm Computer with Winlab32 ICP Software Users manuals Axial Torch NesLab Chiller CFT-33.
PERKIN ELMER 3300 ICP XL是一种溅射沉积设备,使用感应耦合等离子体(ICP)作为表面溅射涂层的离子源。该系统由一个单独的沉积室、一个真空室、一个磁控管电源、一个射频电源和一个ICP电源组成。该装置使用溅射沉积过程,其中雾化材料聚集在基板表面。这个过程涉及一个产生高功率射频波的内室。溅射材料随后在磁控管的帮助下受到强烈的电场,磁控管在沉积在基板表面之前将材料电离。这种工艺被称为离子镀层,经常用于半导体领域,作为一种保护细腻成分免受氧化和污染的方法。3300 ICP XL溅射机由一个单独的沉积室和一个真空室组成,两者都与ICP源相连。ICP源产生等离子体,用于提供高电荷的大气,并在沉积室内产生强大的电场。为了从目标中提取材料并进入基材中,必须使用此字段。然后,电离材料向基板加速,以便在其表面上形成一层薄而均匀的薄膜。这种沉积工艺可用于多种材料,包括金属、陶瓷和聚合物。在存款参数方面,PERKIN ELMER 3300 ICP XL配备了广泛的特点。其磁控管电源可输出高达500瓦的功率,射频电源可产生高达200瓦的射频功率。此外,该工具可在1 mT至10 mT的压力下操作,沉积速率高达0.13 nm/秒。最后,资产带有直观的图形用户界面,允许对沉积和溅射参数进行细粒度控制。此接口还允许集成其他功能,例如过程控制和数据收集,从而进一步增强了模型的功能。总体而言,3300 ICP XL是一款功能强大且精度很高的溅射设备,适合多种溅射应用。
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