二手 PERKIN ELMER 4450 #153442 待售
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ID: 153442
晶圆大小: 3"-8"
Batch type sputtering system, 3"-8"
(3) Delta targets
RF Etch
Turbo pump / Backing pump on loadlock side
Torr-8 cryo pump on chamber side
DC / RF Power supply.
PERKIN ELMER 4450是一种溅射沉积设备,用于半导体工业中材料的物理气相沉积(PVD)。它是一个模块化系统,具有两个具有交钥匙装卸功能的溅射室,以及专用的基板支架组件。4450是一个全自动溅射装置,由过程监控触摸屏界面控制,显示所有机器信息。机器人加载和卸载允许快速、一致的基板传输。该工具还包括自动真空清洗和维护周期,以确保可重复、可靠的操作。PERKIN ELMER 4450配备了五个溅射源--一个电子束枪、三个平面磁原子溅射枪和一个垂直磁原子源。电子束枪喷射高度均匀的薄膜沉积物,而磁原子源则设计用于更大面积、更厚的薄膜应用。电子束枪的光斑尺寸为5毫米,允许非常精确的高分辨率特征沉积。4450采用了先进的溅射沉积和动态离子束蚀刻技术。这允许在晶圆、芯片和板等基板上应用复杂而精确的分层模式。基板温度可从室温最高可调至400°C,允许各种材料沉积。在溅射过程中使用了多种不同的气体,如氙气、氧气和氮气。它们在室内带电加热,然后以离子的形式加速向底物。当离子撞击基板时,它们会使目标材料从基板上溅出或吹出.这种沉积过程在表面上形成一层薄膜。PERKIN ELMER 4450是一种可靠高效的溅射资产,适用于各种PVD应用。它的自动化过程、精确的沉积能力和可靠的操作使其成为各种工业和研究应用的宝贵补充。
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