二手 PERKIN ELMER 4450 #9114027 待售

製造商
PERKIN ELMER
模型
4450
ID: 9114027
Sputtering system TaN process Omron PLC Control (2) Gas (2) Delta target (2) AE MDX-5 PS CT-8 Cryo pump Pallet, 6" No etch, LL heat Currently installed 2000-2005 vintage.
PERKIN ELMER 4450是一种溅射系统,主要用于材料的薄膜沉积和分析。它非常适合各种研发任务,如纳米结构材料的沉积和导电层的形成。设备由一个带有目标支架的溅射室、一个工艺气体入口和一个位于目标下方的平板基板支架组成。在腔室内部,高纯度氙气或其他惰性气体被热阴极或电子枪电离,将物料从目标溅射到基板上。这种等离子体溅射沉积是一种缓慢的、高度受控的过程,能够在金、铜、铬等材料的精确厚度下将薄而均匀的层沉积到硅、玻璃、陶瓷等基材上。系统的计算机控制软件能够设置和调整广泛的工艺参数,以满足特定的沉积要求,如基板温度或溅射速率。这些包括气体压力、基板偏置、目标功率、基板曲率和入射角。4450能够对所沉积层的表面组成、化学组成和组成剖面进行完整的现场分析。这是通过直接在沉积室内安装适当的外部分析设备来完成的。这样的分析使研究人员能够优化沉积层的性质,并验证所需的层厚度、组成和轮廓。此外,PERKIN ELMER 4450允许用户实施多种技术来提高沉积膜的质量,例如离子束溷合或反应性溅射。这些技术扩大了可能沉积的材料的范围,改善了该层的电、光、热特性,并使化合物如氮化物和碳化物的形成成为可能。4450是一个高度精密的溅射系统,其设计提供精确和可重复的薄膜沉积与完整的现场分析。凭借其广泛的可用参数和设置,它为研究人员提供了将一系列材料沉积到各种基板上以及控制和优化层的特性的能力。
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