二手 PERKIN ELMER 4450 #9114028 待售

PERKIN ELMER 4450溅射设备是一种多功能、高性能的真空沉积系统，非常适合广泛的薄膜应用，特别是金属、陶瓷、半导体和氧化物层。4450单元具有可重复晶圆均匀性的静电卡盘、用于基板保护的自动快门和专有的多磁控管堆栈布置。这些特性提供了对集成电路应用必不可少的薄膜材料的均匀沉积。PERKIN ELMER 4450使用直流电（DC）电源,具有高达500瓦的可调溅射功率,最多可使用四个独立的源同时沉积。这使操作员可以在一个腔室中沉积多层薄膜，从而提高工艺吞吐量。溅射源可以独立操作，以确保对材料组成和沉积速率的精确控制，在基板上具有很高的均匀性。4450机器提供卓越的溅射过程控制,并能够使用各种溅射目标、金属和氧化物。先进的磁控管设计允许对大型基板进行出色的光束轮廓控制；导致整个基板的均匀性。该工具通过集成的温度和传感器反馈,提供精确的过程控制,确保正确的目标到基板间距以及一致的每脉冲溅射功率水平和统一的目标利用率。直观的基于PC的图形用户界面通过一键启动/停止排序和实时显示目标电流、基板温度、溅射速率和薄膜厚度,确保了易用性。自动化的基板负载和卸载允许高效、方便的样品处理和更快的处理时间。总体而言,PERKIN ELMER 4450溅射资产是寻求薄膜沉积过程自动化、高性能模型的研究人员和企业的绝佳选择。它具有多种多样的特点和灵活的工艺控制，可以适应从集成电路开发到金属涂层和保护层等多种应用。该设备的用户友好界面和可靠的性能使其成为任何实验室的绝佳补充。