二手 PERKIN ELMER 4450 #9173056 待售
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ID: 9173056
晶圆大小: 6"
Sputtering system, 6"
Load lock system
(4) 8” Target head assemblies, bonded
MKS Gas control with MKS MFC and CMT
Pallet
(7) Positions
GP 303 Ion gauge controller
With dual convectron & IG tubes
VAT throttling gate valve
Vexta precision table motor and controller
AE Pinnacle 6 kw RF power supply
AE MDX-10 DC power supply, 10 kW
ENI RF Generator with matching unit for etch
RGA (Residual Gas Analyzer)
21 CFM Mechanical pump
CT-8 Cryo and SC compressor.
PERKIN ELMER 4450是一种高品质的溅射设备，适用于将各种材料的厚膜沉积在多种基材上。该系统设计用于在任何给定的基板上提供超光滑和均匀的材料涂层,并提供多种溅射材料选择。4450旨在通过方便地访问溅射目标、高性能冷却介质以及精确控制压力、功率和过程时间,最大限度地提高生产率和最大程度地减少停机时间。该单元设有一个双目标、非疏散室，为用户提供了复杂溅射过程的高度灵活性。其真空范围为10-6毫巴，最大溅射速度为500Å/秒，底压为6 × 10-8毫巴。溅射目标安装在电子枪中，易于拆卸和更换，以便快速接触不同的溅射材料。该机配备了高精度的运动级控制器，与双目标装置配合使用时，可以使样品厚度在大面积上均匀。PERKIN ELMER 4450在其设计中融入了高级控制器逻辑，对溅射过程提供了高度的灵活性和控制。它包括一个斜坡向上/斜坡向下的特征，当在较大的基板上溅射较厚的薄膜时特别有用。用户可以通过易于使用的图形用户界面对所需的流程参数进行编程,包括电源、压力和持续时间。这样可以对工艺进行非常精确的控制,从而确保精确的涂层效果。该工具配有完全集成的冷却电介质，用于在溅射操作期间维持目标和源温度。该介质设计用于在溅射过程中保持低温，这对于尽量减少目标材料的蒸发和等离子体的降解至关重要。它还有助于保持均匀的溅射过程和均匀的基板覆盖。4450是MEMS、半导体和光伏器件材料沉积等广泛应用的绝佳选择。凭借其先进的控制逻辑和集成的冷却介质,资产确保了高度均匀、厚实的薄膜,而用户只需付出最小的努力。
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