二手 PERKIN ELMER 4450 #9226951 待售

製造商
PERKIN ELMER
模型
4450
ID: 9226951
Sputtering system DC Gun (2) RF Guns, 8" (Round) PERKIN ELMER RF Matching network included Turbo pumps load lock and process chamber Substrate pallet: RF Bias Mechanical pump (2) Turbo pumps Base pressure: Normal: >5 e-7 Torr Substrate size: 2" to 6" Henry RF power supply ENI RF Power supply.
PERKIN ELMER 4450溅射设备设计用于将高纯度金属或绝缘体靶标薄膜沉积到多种基板上,是一种广为公认的溅射系统。它是生产高品质薄膜材料的高能力工具,适用于一系列电子、汽车和其他工业应用。该装置采用易于使用的触摸屏计算机界面,具有坚固的腔室结构、双源离子泵和高精度、低漂移涡轮分子光束线,具有极致选择性。4450溅射机利用双离子源泵来提供材料沉积所需的高真空环境。这是通过利用角度切割,旋风,离子源腔室来创建所需的薄膜层的基板。腔室内衬钛石英窗,可同时沉积多达两个靶子,也可保护腔室不受极性溶剂的影响。内置温度控制器确保溅射室壁保持在稳定的温度,这对于满足应用程序的严格要求至关重要。PERKIN ELMER 4450溅射工具的光束线在保持高度控制的前提下,具有稳定的样品沉积能力。这是通过一个集成的控制资产来实现的,该资产为梁轮廓提供了精确的设置和控制,以实现最佳的精度和均匀性。此外,该模型还具有先进的阵列功能,例如能够获得均匀的边到边溅射覆盖、薄薄的均匀层以及专用产品的大面积阵列。为了保证可靠性,该设备采用了双源离子源组件,能够快速加热和冷却系统,以便快速地为各种操作准备腔室。这样可以确保所有溅射操作都以一致的压力、温度和真空水平进行。此外,它还配有坚固的钛石英窗,可承受沉积室中使用的苛刻清洁剂。最后,内置安全功能确保该装置符合国际清洁室作业条例和要求。4450溅射机是一种可靠、能干的仪器,可用于形成符合各种电子和汽车应用要求的高质量薄膜材料。该工具配有触摸屏计算机界面、双源离子泵和高级制图功能,可对沉积过程进行量身定制的控制。坚固的腔室结构,加上集成的控制资产和钛石英窗,确保了薄膜层的均匀性和精确的图桉,使PERKIN ELMER 4450成为可靠且功能强大的溅射模型。
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