二手 PERKIN ELMER 4450 #9262871 待售

製造商
PERKIN ELMER
模型
4450
ID: 9262871
PVD Sputtering system DELTA Target Cryo compressor Vacuum pump Vacuum gauge Gallium Arsenide (GaAs) Glass wafers / Solar cell ADVANCED ENERGY RFX 6000 RF Generator ADVANCED ENERGY DC Power supply Temperature controller Silicon wafer, 4"-8" Panel missing.
PERKIN ELMER 4450是一款高性能的多晶目标溅射设备,专为广泛的溅射和沉积应用而设计。它具有先进的计算机控制溅射过程环境,为高级过程控制和溅射速率监测提供了灵活性。该系统旨在提供广泛的溅射策略,允许沉积高质量、均匀的薄膜,如金属氧化物、SiO2和高导电性薄膜。该装置的工作压力范围很广,从低真空到中等真空,允许沉积大尺寸和图样样品。它配有一个大的目标腔,带有一个可旋转的阴极组件,允许超过4500个单独的目标的溅射。该机配备了溅射压力、沉积温度、目标排列和目标开口等多种计算机控制参数。它还允许精确控制膜在整个基板表面积上的溅射速率和均匀性。该工具也适用于溅射蚀刻和高均匀率。它具有三轴单级磁场发生器,最大150 mT,保证了均匀的溅射轮廓和均匀的沉积速率。通过PLC微处理器操作的溅射速率控制器,确保了沉积速率的精确控制,减少了工艺时间。该资产还具有许多用户友好的功能,包括基于Web的GUI,它允许对溅射过程进行远程控制和监视。该型号配备了光学发射光谱仪、微天平、磁控管溅射源、氙离子源、热电偶、电子束蒸发器和真空泵。该设备包括一个多用途的腔室和先进的真空系统,可提供清洁、低污染的环境。通过使用节能液体冷却系统对装置进行冷却,该系统将溅射室保持在所需过程的一致温度。综上所述,4450是为各种溅射和沉积应用而设计的现代、高性能溅射机。该工具便于过程控制、卓越的速率控制和均匀的薄膜。该资产还包括可靠的真空模型和一些用户友好的特点,使其适合各种不同的过程。
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