二手 PERKIN ELMER 4450 #9262972 待售

PERKIN ELMER 4450是一种先进的离子辅助溅射设备，专门设计用于薄膜沉积和表征到底物上。它配备了广泛的溅射源，用于几乎所有金属、纳米颗粒和其他材料的沉积，以及用于反应性和氧化过程。该系统旨在将厚度和保形均匀的薄膜沉积到具有挑战性的基板上，如半导体和陶瓷。其先进的特性，如先进的离子控制和过程控制单元，使薄膜沉积精确准确。而且，其先进的设计也使得获得高质量、均质的薄膜成为可能。先进的离子控制使设备能够在一系列材料上输送和控制一致的薄膜成分和深度。此外，它还具有旋转阶段来移动基板位置，以优化沉积，从而在具有挑战性的或凹陷的基板上达到均匀的薄膜厚度。它还拥有一个用于精确沉积控制的过程控制单元，并配有一个可自动更换基板和快速交换材料的集成负载锁定室。该机可用于各种应用领域，如平板显示器、太阳能电池、光电器件、数据存储、半导体晶圆等。此外，可以使用该工具进行广泛的溅射过程，包括中性、阳极氧化膜和反应性溅射。这使得它成为各种应用中许多功能性薄膜的快速原型设计和表征的理想选择。另外，溅射资产可用于铁电和压电膜的沉积。该模型还配备了先进的高速观察设备，用于研究薄膜沉积。此外，它是一个集成的软件，可以对薄膜沉积和表征进行有力的分析。总体而言，4450是一种先进的离子辅助溅射系统，旨在将薄膜沉积和表征到基质上。其先进的特性，如先进的离子控制和工艺控制单元，使得更高质量，均质膜以均匀的厚度和保形性沉积在具有挑战性的基板上。此外，其广泛的溅射过程和强大的集成软件使得它成为一个伟大的工具，快速原型和表征。