二手 PERKIN ELMER ICP 2000DV #9231262 待售

PERKIN ELMER ICP 2000DV是一种专业的溅射设备，设计用于薄膜的物理气相沉积，用于研究和工业应用。这种先进的溅射系统具有四轴均匀沉积操作单元，并配有一个高真空室，带有大门，便于装卸。这台机器的主要部件包括一个磁控管溅射阴极、一个基板支架、一个用于操纵基板的控制器、一个射频电源和一个高真空泵浦工具。该资产能够生产厚度约为0.2-100 nm的极为均匀的薄膜。磁控管溅射阴极是利用氙气或其他惰性气体产生等离子体轰击带有正离子或负离子的目标材料。然后将目标材料高速溅射到基板上。基板架负责操纵基板，以确保沉积均匀，能够旋转、倾斜、旋转基板。控制器允许用户编程沉积速率、均匀性和处理功率等参数。射频电源负责提供高溅射速率所需的高压和低频信号。它能够提供具有稳定和可重复过程参数的精确电源控制。采用高真空泵浦模型维持高真空水平，以实现高效沉积。它由多个真空级组成，能够达到<2 x 10-6 Torr的极限真空。设备还配备了软件和硬件，使用户能够轻松监控整个过程。该软件具有可视化和数据记录功能以及易于使用的图形界面。硬件包括一个X、Y、Z和theta电动机控件，用于精确操纵沉积室中的基板，以及一个记录系统总运行时间的累积计时器。PERKIN ELMER ICP 2000 DV是需要极高精度沉积薄膜的研究和工业应用的理想选择。这种先进的溅射装置能够生产出各种材料应用的优质薄膜，其用户友好的软件和硬件功能使用户易于监控和控制工艺参数。