二手 PERKIN ELMER ICP 5300DV #9392687 待售

PERKIN ELMER ICP 5300DV是一种设计用于将薄膜涂层沉积到基板上的高性能溅射设备。它是一种将精密溅射与受控沉积相结合的先进系统，具有较高的沉积速率和优良的薄膜性能，适用于广泛的应用。该单元由溅射室、底座和真空泵站组成。溅射室装有几个磁体，产生强烈的磁场，便于目标材料在室内电离。然后使用气体喷射机将溅射气体引入室内。底板包含工件，通常加热到所需的沉积温度。室内可控制和监控温度、压力和功率。一旦腔室充满了所需的气体，就会向目标施加双极电压。气体中的离子随后加速向目标，引起原子轰击，这被称为"溅射"。溅射的原子然后穿透基板形成薄膜涂层。ICP 5300DV还配备了一个特殊的脉冲电源，可以控制材料的均匀沉积。电源可以编程为在溅射过程中改变电压和电流，这有助于确保均匀和高质量的涂层。该工具还使操作员能够调整溅射速率，从而更好地控制沉积膜的厚度。资产能够从各种来源，包括金属、非金属、化合物和合金，沉积各种材料。沉积速率可从每分钟几纳米调到每分钟几十微米，可用于研究、原型制作和生产应用。总体而言，PERKIN ELMER ICP 5300DV是一种先进的溅射模型，可用于将高质量的薄膜应用于一系列基板。该设备提供了对工艺参数的特殊控制，可用于以各种沉积速率沉积各种材料。