二手 PERKIN ELMER ICP-OES 7300 #293671065 待售

PERKIN ELMER ICP-OES 7300是一种先进的溅射沉积设备，设计用于通过溅射的薄膜沉积。该系统提供无与伦比的控制,创造薄膜涂层的一致性和精确度.溅射过程在压力范围为5 × 10-4至5 × 10-7 Torr的真空室中进行，实现精确一致的薄膜沉积。直观单元使用户能够控制腔室中的所有条件,以实现最佳膜生长,并提供高达8nm/s的快速沉积速率。一个先进的机器控制器和两个先进的传感器确保沉积过程始终按计划进行。ICP-OES 7300具有广泛的溅射目标,使用户能够将溅射应用范围扩展到传统材料之外。目标材料选择广泛，该工具适用于涂覆多种材料，包括金属、氧化物、氮化物和碳氮化物，使资产适应各种薄膜涂层需求。该模型是为工艺优化而设计的，具有一系列工艺参数，允许用户根据特定需要量身定制其薄膜沉积工艺。这些参数包括溅射气体类型、磁场的电压和功率、真空的压力范围和沉积速率。连接到设备的控制器应用程序提供了对过程的更多控制，使用户在微调参数方面具有更大的灵活性。为了保持始终如一的优质沉积，系统还配备了驻井时间控制功能和均匀的气体驻井分配模块等先进功能，有助于确保真空内气体均匀分配，避免涂层缺陷。该装置的另一个优点是其安全特性，其中包括先进的AR大气测量仪、双气体分离室和远程操作机器（ROS），可最大限度地减少危险货物的接触。为了最大限度地提高沉积效率，PERKIN ELMER ICP-OES 7300配备了双磁控管源，能够以尽可能高的沉积速率进行均匀沉积。该工具还具有灵活性,为直径不超过150 mm的基板提供了一系列可选的背面装载夹具。最后，ICP-OES 7300通过具有无与伦比控制的溅射沉积过程提供了先进的薄膜沉积能力。该设备具有通用的溅射目标、工艺控制、先进的安全特性和快速的沉积速率，是满足薄膜涂层需求的绝佳解决方桉。