二手 PERKIN ELMER / RANDEX 3140 #9247279 待售

ID: 9247279
晶圆大小: 6"
Sputtering system, 6" Sputter coater Sputtering head Vacuum chamber Rolling vacuum enclosure / Base Does not include: Turbo pump Roughing pump Cathode sputtering interfaces with vacuum station 14" RF Sputter deposition Bias sputter Sputter etcher Deposition uniformity: ±5% Matching network combined with 1/2 kW RF power supply PLASMATHERM HFS 500E RF Generator Power supply.
PERKIN ELMER/RANDEX 3140溅射设备是一种高质量的溅射系统,旨在将所需材料的薄膜沉积到基板上。它是一种双磁控管装置,可促进对溅射沉积的更多控制,非常适合需要精确的应用,如涂覆光学元件、芯片上实验室设备、数据存储、显示器和材料分析。RANDEX 3140型号具有13英寸直径的真空室,适合各种尺寸可达12英寸的基板。PERKIN ELMER 3140还提供了广泛的操作压力和沉积速率。它能够在高沉积速率下生产具有良好附着力、均匀性和均匀性的高质量薄膜,非常适合采用等离子体增强化学气相沉积、反应性溅射沉积或物理气相沉积技术进行薄膜沉积。该机采用高精度控制器供电,对直流和射频功率、射频频率和溅射压力进行精确优化,以实现均匀的薄膜沉积。3140还具有种类繁多的操作参数,使用户可以定制沉积过程,优化成品膜的目标特性。此外,PERKIN ELMER/RANDEX 3140还包括一个自动晶圆处理工具,在纺丝过程中方便准确。它包括可调节的安全特性,如传感器和关闭系统,如果腔室中有晶片,将停止溅射。RANDEX 3140还配有一个电红外加热元件,用于排气基板和启动溅射过程。PERKIN ELMER 3140溅射资产是将所需材料的薄膜沉积到基板上的绝佳工具。它是一个高质量、集成的溅射模型,提供精确的可调参数和特征,保证了薄膜沉积应用的成功。易于使用的控制器、直观的安全特性和自动晶片处理设备对沉积参数提供了优越的控制,让用户创造出附着力、均匀性、均匀性都很好的优质薄膜。
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