二手 PLASMA SCIENCES ARC12M #293646048 待售

ID: 293646048
Sputtering system Target diameter, 8".
PLASMA SCIENCES ARC12M是一种先进的磁控管溅射设备,用于薄膜沉积、涂层和绝缘等工业应用。该系统能够为各种材料沉积广度和复杂性的涂层。适用于多种基板上的单层和多层应用。该装置采用独特的专利先进等离子体电弧源技术,能够产生比传统磁控管溅射系统更高的功率密度和更高的沉积速率。这使机器能够沉积金属、陶瓷、介电和光催化层。通过在一系列过程参数中可靠地运行,进一步增强了该工具。ARC12M设计具有多种安全功能,使其对操作员和其他人员的风险降至最低。资产的离子源是模块化的,这意味着操作员可以快速轻松地交换目标板,并将新材料纳入溅射过程。这使得生产具有最大的灵活性。PLASMA SCIENCES ARC12M能够在各种功率级别上工作,并且包括用于目标材料操作的可选低功率模式。此模式需要显着降低目标功率,允许用户执行精细的加工过程,而不会破坏过程的稳定性,并将目标材料暴露在不希望的温度下。该模型被设计用于处理多种气体,包括​​氙气、氧气和氮气。这允许用户通过调节气体压力来沉积化学计量和污染水平不同的薄膜。此外,该设备提供均匀的溅射速率,具有宽广的离子角分布,使所有基板表面的薄膜均匀性更高。ARC12M还具有集成的遥控/监控接口和可变工艺压力室。这使操作员能够根据所需涂层的类型快速轻松地调整腔室内部的压力。这有助于确保基板和薄膜保持对外部污染物的适当保护。总体而言,PLASMA SCIENCES ARC12M是一个先进的、功能丰富的溅射系统,为各种工业应用提供可靠的性能。它的低功率模式和模块化离子源也使其成为精细应用的理想选择,而其集成的远程接口和压力室确保了沉积在所有基板表面的薄膜的优越均匀性。
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