二手 PLASMA SCIENCES HRC 200 #10010 待售

PLASMA SCIENCES HRC 200是一种多用途、紧凑的高速率溅射系统，能够沉积各种不同用途的材料。它能够实现磁盘驱动器磁头层、基板、MOS/MEMS和高端消费电子等许多应用所需的具有长期重复性和均匀性的高速率沉积。HRC 200基于径向磁控管溅射技术，将非磁性材料沉积到包括铝、不锈钢、石英、玻璃和硅在内的多种基板上。这项技术的优点在于，它既能对大大小小的区域进行涂层，又能沉积非常薄、高度均匀的层。该HR-200能够沉积一系列金属、陶瓷等材料，如氧化铝、铬、钛、氮化硅、氧化铁等多种化合物。它还利用了电离物理气相沉积（IPVD）和高功率脉冲磁控管溅射（HIPIMS）等一系列先进技术。其先进的等离子体源能够沉积极均匀的层，在大基板上具有特别高的均匀性。该HR-200还利用先进的控制面板、温度和压力监测系统来确保均匀和可重复的沉积。该系统是为低成本涂层设计的大型基板具有卓越的均匀性。它占地面积小，结构轻巧，运输方便，适合实验室或工业使用。SLASMA SCIENCES HRC 200易于使用和维护，对腔室压力和沉积速率进行自动监测。它还包括一个集成的基板到基板的旋转系统，以提高在大型基板上的均匀性。此外，几乎所有业务和条件都可以通过互联网连接进行远程监测和管理。总体而言，HRC 200是金属和金属氧化物材料高速率溅射的理想解决方桉，具有较高的均匀性和可重复性。它为各种不同的应用提供了强大、紧凑和灵活的涂层解决方桉。利用其先进技术和远程监测，PLASMA SCIENCES HRC 200提供了可靠和可重复的沉积过程，具有卓越的可重复性和统一性。