二手 PROVAC PAS200T #9116850 待售
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ID: 9116850
晶圆大小: 12"
High vacuum sputtering system, 12"
Square wafers up to 8" x 8" can be coated with a distribution of < + -5%
Automatic loading and unloading
Substrates to be processed are picked up from the respective cassettes by robot handling and placed on the coating tables
Substrates subsequently evacuated and moved into the process chamber
Throughput: ≤ 48 wafers per hour
Maximum temperature of panels: 130°C
Si-sputtering:
Film thickness distribution: < + - 10%
Reproducibility: < + - 5%
Automatic process control
Pump set: High vacuum valves in front of the turbo pumps, one turbo pump each for the process chamber and each load lock
Magnetron: 1 x 16" ONYX-cathode with rotary magnet Pulsed DC magnetron power supply Silicon target 16"
High vacuum inline
Process chamber
(2) Load locks
Robot handling
Basic frame
Size of PC rack: integrated within the frame
Electric supply: (3) phases, full load capacity N, PE
Electrical connection data:
Voltage: 3 x 400V / 230V AC / ± 10%
Frequency: 50 or 60Hz ± 1%
Voltage: 35A
Currently warehoused.
PROVAC PAS200T是一种专为薄膜沉积而设计的溅射设备，是PVD涂料系列的绝缘设备。该系统具有在各种基板上提供最高质量溅射沉积的能力，使其成为电子、光学、硅、半导体以及许多其他行业和应用的理想选择。PAS200T最多可溅射20种材料，可用于金属合金、氧化物、氮化物、氙化物和碳化物在一系列小型、中型或大型底物上。该单元还具有广泛的工艺控制,以确保最终结果中实现所需的材料特性和属性。它提供了管理等离子体功率、压力、气体流量、沉积速率和薄膜厚度控制等不同工艺参数的能力。机器上装有一个超高真空室.该腔室能够与外部内部环境隔离，从而确保薄膜沉积的最佳工艺条件。该工具还具有顶部定位的目标支架,可确保均匀旋转和一致的溅射材料曝光。它有两个线性平移阶段，使工程师能够在放置过程中上下移动基板，以获得最佳沉积速率和均匀涂层。它还配备了内置的准直仪，用于掩蔽和聚焦溅射材料到基板的选定区域。此外，该资产还可用于各种阴极，具体取决于要沉积在基板上的材料种类。PROVAC PAS200T还具有真空、空气和水压警报、温度传感器和真空监视器等多种安全和便利功能,以确保可操作性和安全性。它还包括保护设备部件的高温保护模型，以及防止进入危险部件的机械驱动屏幕。最后，该设备还包括一套方便的数字输入和输出，使用户能够方便地从任何计算机操作该系统。总之，PAS200T是一种可靠的薄膜沉积溅射装置，非常适合许多工业和应用。它的过程控制特性的阵列允许多变性和准确性，而它的各种安全和便利特性保证用户友好。
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