二手 RPT RTA-381A #9397130 待售

RPT RTA-381A溅射设备是一种高精度、超低压溅射系统，设计用于将薄膜涂层均匀地沉积在半导体基板上。该单元由射频电源、腔室、溅射目标和气体输送组件组成，设计用于一系列科学和工业应用。射频电源是一种高度可编程的步进调节外射频发生器，具有数字控制，用于精确的脉宽调制。它能够在13.56 MHz时产生高达400瓦的射频功率,具体取决于真空配置。这是能够沉积薄膜精确厚度，在+/−2％。溅射室由不锈钢构成，设计具有超高真空（UHV）能力，在溅射时保持全真空水平。该系统经过优化设计，可确保薄膜均匀沉积，具有高效的真空泵系统，可防止除气。溅射目标由纯金属或合金组成，以确保精确的沉积材料。广泛的溅射目标可用于满足特定薄膜的要求，包括用于隔离层转移的溅射蚀刻目标。机器的气体输送部件包括高性能气动真空阀、气体溷合器和数字质量流控制器（MFC）。MFC信息丰富、准确，旨在监测精确的气流并减少除气的可能性。RTA-381A为科学和工业应用提供精确、可靠和高度可重复的薄膜沉积。它能够在严格的公差范围内制造各种类型的、厚度均匀的高离散层,并具有提供稳定性和可重复性的优化过程控制工具。该资产非常适合生产金属薄膜、合金和一系列半导体器件的介电材料。