二手 RSI / VANGUARD Sencera #9300991 待售
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ID: 9300991
In-line sputtering system
(6) Target large panels
Vacuum pump
Turbo pump
RF and DC Power supply
Qty / Make / Model / Description / Part Number
(4) / ADVANCED ENERGY / Pinnacle 3152442-102D / Generators / -
(2) / MKS / optima RPG-50Z / DC power supply / RPDG-50Z-10237
(1) / MKS / optima DCG-200Z / DC power supply / RPDG200Z-08055
(1) / ADVANCED ENERGY / MDX / 2011-000-AA / Magnetron Drive / -
(1) / ADIXEN / AD30KL / Dry pump / -
(1) / BOC EDWARDS / STP-iXA2206C / Turbomolecular turbo pumps / - / YT81-0Z-010 controller
(2) / BOC EDWARDS / STP-iXA2205CP / Turbomolecular turbo pumps / - / iPS-1200 YT63-W1-Z10 & Z00 controller
(1) / VAT / 65048-PAAP-BAS2/0001 A-1799517 / Vacuum Pendulum Control Valve / -
(1) / VAT / 65048-PAAP-BAS1/0002 A-973785 / Vacuum Pendulum Control Valve / -
(1) / VAT / 12148-PA24-AKW1/0005 A-977764 / Vacuum Pendulum Control Valve / -
(1) / VAT / 12148-PA24-AKW1/0006 A-97776 / Vacuum Pendulum Control Valve / -
(1) / ALLEN BRADLEY / 1734 / Processors and I/O / -
(1) BROOKS AUTOMATION / MFC / Delta Series / -.
RSI/VANGUARD Sencera是为薄膜沉积和涂层应用而设计的溅射设备。它利用两个低温冷却的阴极在高真空环境中从阴极目标蒸发材料，然后沉积在基板上。蒸发的材料通常是钛、铝、铬或铁,RSI Sencera系统的沉积速率高达每秒2埃。VANGUARD Sencera具有控制材料电离方向和能量的双极溅射模式。这种模式有助于均匀沉积和涂层，低溅射，低寄生再沉积。该单元还包含用于控制带电粒子电离的内部磁体和一个频率扫描发生器，以确保均匀覆盖。Sencera机器包括一个紧凑的沉积室和一个工业级真空泵，用于创造高真空环境。腔室设有环绕基板的电极，用于瞄准和捕获蒸发的材料并测量温度。腔室温度可监测控制在5至40摄氏度之间。RSI/VANGUARD Sencera具有一个用户友好的界面,具有多种操作模式,其中包括一种预设模式,该模式允许轻松回忆产生所需结果的实验。可编程速率进纸器允许更精确地确定诸如沉积速率之类的溅射过程参数。该工具还包括过电压保护和电源关闭等内置安全功能。总体而言，RSI Sencera资产是薄膜沉积和涂层应用的优越溅射模型。其磁铁和频率扫描技术能实现高沉积速率和均匀电离，而其友好的界面和可调节的温度控制使其易于使用。此外，其内置的安全特性，使其安全可靠的可重复的实验与可重现的结果。
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