二手 SELCOS CETUS-S #9204339 待售

SELCOS CETUS-S
製造商
SELCOS
模型
CETUS-S
ID: 9204339
晶圆大小: 6"-8"
Sputtering system, 6"-8" (1) Chamber (2) Targets.
SELCOSELCOS CETUS-S是一种具有最先进技术的溅射设备,能够在小型和复杂的真空室中沉积薄膜。这种经济高效的系统可用于从单个目标到多个目标的各种配置。其独特的双兼容功能允许用户在直流(DC)或交流电(AC)模式下溅射。该单元还配备了多层目标配置和增加面积的电子显微镜波形发生器。SELCO CETUS-S具有从二极管类型、修改后的平面、平面共沉积和旋转类型配置中选择的源几何形状。为了确保最佳的过程控制,这台机器与高效的电源工具完全集成在一起,该工具包括可调节组和过程压力控制,以及涡轮分子泵。这种强大的电源资产能够提供高达10kV的性能,而处理器可提供高达五层的精确控制,并具有完美的速率和均匀性。在交付方面,这种型号可以同时进行干式和湿式蚀刻操作。在溅射过程中,用户可以为更复杂的应用程序选择低成本、单目标配置或更复杂的多目标配置。此外,SELCOS CETUS-S配备了先进的溅射冷却设备,负责维持腔室内的温度水平。这样可确保即使在长时间运行时也能保持一致、均匀的温度和充分的冷却。这款高性能系统还采用了创新的触摸屏界面,使其操作非常方便。该单元与多种材料兼容,如铜、钛、铝、金、银。此外,SELCO CETUS-S与现代制造设施中必需的多种组件兼容,如柔性电路、微流体芯片和掩模。最后,该装置配备了最先进的检测和安全机器,最大限度地保护人员。其最先进的探测器能够监控工具的性能,诊断潜在的异常,并帮助保护人员不受潜在有害条件的影响。该资产还包括复杂的远程诊断功能,允许用户在出现任何异常情况时收到提示通知。所有这些特性使得SELCO SELCOS CETUS-S对于那些寻求一种功能强大、经济高效的薄膜沉积解决方桉的人来说是一个绝佳的选择。
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