二手 SEMICORE MRC-943 #9275511 待售
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已售出
ID: 9275511
晶圆大小: 6"
Seed layer deposition system, 6"
Process chamber
(3) Targets:
T1: TIW
T2: CR
T3: CU
Process chamber ultimate vacuum: ≤5.0E^-6torr
Loadlock ultimate vacuum: ≤5.0E^-6torr
Process gas: Ar
Process gas flow: 0 ~ 100sccm
Process pressure control range: 0 ~ 20mtorr
RF Power: 0 ~ 1500 W
DC Power: 0 ~ 10 kW
Film uniformity: ≤5%
Spare parts included.
SEMICORE MRC-943溅射设备是市场上最先进的溅射系统之一。它是一个功能强大、用途广泛且经济实惠的系统,非常适合各种应用程序。SEMICORE 943利用磁性径向压缩技术,以一致、均匀的溅射材料沉积实现高通量率。通过采用独特的三轴运动控制来精确控制溅射速率和目标材料的角度,该装置能够实现非常高的精度和精确的沉积。高级控制器还允许通过互联网对机器进行远程控制和监控。MRC-943是为大型生产运行而建造的,有一个大的溅点尺寸,可容纳直径不超过200毫米的基板。与其他溅射系统不同,943利用一个独特的分流级来排放溅射过程中产生的颗粒,从而允许更高质量的沉积和更长的运行时间。此外,该工具允许快速改变基板,消除与其他溅射系统相关的等待时间。SEMICORE强大的控制器和先进的软件MRC-943使用户能够通过多种方式对资产进行编程以存放溅射材料。使用模型可以很容易地进行图样和蚀刻,并且可以根据用户定义的参数实现溅射过程的自动化。该设备由高效射频电源供电,包括一系列易于互换、可移动的陶瓷靶标,提供了广泛的沉积可能性。SEMICORE 943还拥有先进的计算机控制温度控制和真空系统,允许操作员在沉积过程中精确调节目标和基板的温度以获得最佳效果。总体而言,MRC-943溅射系统是一个先进的单元,非常适合各种应用。凭借其强大的控制系统、广泛的沉积可能性和自动化编程能力,这台机器是任何研究或生产环境的绝佳选择。
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