二手 SHIBAURA CFS-8EP-55 #293608660 待售

SHIBAURA CFS-8EP-55是为制造薄膜半导体器件而设计的溅射设备。这台机器是一种功能强大、用途广泛的工具,可用于各种应用,包括：薄膜光伏、显示技术、薄膜MEMS设备和薄膜生物传感器。溅射系统在低压下运行，需要一个真空室和两个或多个等离子体溅射源。该腔室由不锈钢制成，最大压力为3.2 × 10-1帕。在腔室内部，一对圆形磁铁（称为磁控管）环绕目标材料，通过压缩和聚焦离子来增加等离子体密度。这增加了目标材料向腔室发射的速率，从而提高了薄膜沉积的速率和均匀性。溅射装置配有两个溅射源，以提高建造率。该LPH-30P包括两个模块化电源、一个可用于控制两个源的相对相位的相移电路和两个全向0.8厘米溅射电极。该LPH-30P使用直流电（DC）来实现较高的目标/基板覆盖率。该LPH-30P适用于氧化物、氮化物和金属的沉积。机器的另一个溅射源，PES-30P，是一个脉冲远程等离子体源，功率比LPH-30P高。它在较高的压力设定下运行，并具有螺旋形电极。这种设计产生了能量更高的等离子体和更大的溅射材料半径，导致更快的沉积和改善小区域的均匀性。它非常适合沉积合金和其他多组分材料。CFS-8EP-55溅射工具还为用户提供了先进的过程控制功能。连接到腔室的控制器可实时监视所有参数。控制器配备了基于Windows的图形用户界面，提供了一个易于使用的平台来控制资产的各种功能。此外,该软件允许自动过程控制,以确保最佳的薄膜沉积结果.总体而言，SHIBAURA CFS-8EP-55是一种强大可靠的溅射模型，旨在满足当今研发项目的需求。这台机器使用户能够轻松地创建一系列材料的高质量薄膜，使他们在加工敏感基板时具有极致的灵活性和控制力。