二手 SHIBAURA ITO #9378267 待售

SHIBAURA ITO是一种溅射设备-一种先进的技术,用于制造各种材料的薄膜,用于科学和工业用途。由于实验室能够生产高质量的材料，它经常被实验室用于研究和开发活动。系统的核心是直流磁控管溅射源，利用强烈的电场将电流通过真空传递到金属目标。这样就形成了一个等离子体场，其强度足以缩短气体分子之间的距离，并进一步形成气态或金属膜，随后沉积在下面的表面。ITO溅射装置生产的溅射沉积膜有诸多好处，包括提高了理化稳定性、光学透明度、硬度等等。SHIBAURA ITO机利用平面磁控管，磁场由两个类似的磁体产生，非常适合需要在大面积上均匀沉积的应用。与传统的圆形磁控管相比，平面设计允许对磁场方向进行更多的控制，甚至对于形状复杂的表面也可以更均匀地沉积薄膜。该工具在功耗方面也很高效。具有较高的功耗效率,ITO可以使用比其他溅射系统更低的电源进行小规模的操作。此外，该资产的气体消耗率低，减少了与不断和过度补充气体有关的成本。SHIBAURA ITO模型也非常适合因设备占地面积小而需要遵守严格环境法规的应用。该系统的设计目的是尽量减少将颗粒排入环境，甚至配备一个强大的过滤装置，确保排放达到最低水平，符合大多数环境标准。总体而言，ITO溅射机是一种可靠、高效、高效的工具。其直流磁控管溅射源被设计为产生质量优越的薄膜，除了能够在控制均匀的大面积上产生薄膜，使其成为各种科学、工业和研究项目的理想选择。其低功耗和满足严格环境法规的能力进一步扩大了这种溅射工具的潜在应用范围。