二手 SHINCRON BSC-19043LT #293608265 待售

製造商
SHINCRON
模型
BSC-19043LT
ID: 293608265
Sputtering systems Max temperature: 360°C Operating temperature: 320~340°C Substrate thickness: 0.4 / 0.55 / 0.7 / 0.85 / 1.1mm Source: (2) ITO HX Type (2) Sio2 B Type Substrate size: (64) 300 x 300mm (48) 300 x 320mm (48) 300 x 340mm (48) 300 x 400mm.
SHINCRON BSC-19043LT是一种双室溅射设备,用于各种工业和科研应用。它由安装在同一轴上的两个沉积室组成,一个转移旋转臂分隔这些室。真空密封被放置在腔室之间,以允许高真空水平和可重复的工艺条件。该系统在每个腔室中最多可处理六种基材,并且可以量身定制以支撑各种基材尺寸和厚度。同时BSC-19043LT沉积多达四种物质。该单元的一个独特特点是能够将材料沉积序列配置为两个或三个材料的序列,甚至是单个材料的顺序层。SHINCRON BSC-19043LT采用专有的电离设计,其沉积膜在基板表面具有较高的均匀性。这种卓越的均匀性归因于这种溅射机所利用的可调动态副产品抑制。离子化设计和动态副产品抑制也导致了对沉积参数的改进过程控制。为了便于操作和安全,BSC-19043LT配备了安全联锁装置,以保护操作员和工具免受危险操作。位于腔室之间的HEPA过滤器有助于有效地泵送污染物。此外,该资产还可以通过管子清洗、晶圆烘烤、喷泉维护等多种预防性维护选项轻松维护。SHINCRON BSC-19043LT还对沉积过程提供无与伦比的控制。通过运用先进的控制技术,模型利用压力和温度传感器对气流、压力等关键工艺参数进行精确调节。这种经过微调的控制在降低工艺运行的同时,提高了产量,提高了膜的均匀性。最后,BSC-19043LT是一个先进的双室溅射设备,能够处理各种基材和材料具有优越的均匀性。结合该系统的所有特点和功能,是材料研究和沉积应用的理想选择。
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