二手 SHOWA SHINKU SIA 3000 #9192914 待售

SHOWA SHINKU SIA 3000是一种最先进的溅射设备，广泛用于通过物理气相沉积（PVD）沉积薄膜，具有较高的沉积速率。由于其操作范围更广，对氮化物或氧化物薄膜的沉积特别有用。该系统包括一个等离子体旋转源，它允许在广泛的膜厚度范围内沉积厚度和组成均匀的膜。它配有离子通量监测仪，可控制沉积速率，并配有源功率稳定器，以保持一致的沉积速率。此外,该单元还能够进行直流或射频溅射,具体取决于要沉积的薄膜类型。SIA 3000旨在为基板预清洗和溅射提供精确控制的环境。室内温度控制，确保最佳沉积条件，其集成的除粒机确保沉积环境无污染。该工具使用快速转移快门操作，允许在各种基板上快速沉积薄膜，包括金属、玻璃、聚合物和合金。此外，即使在高压下工作，它的磁屏蔽也能确保等离子体的均匀性和稳定性。为了保证薄膜厚度和组成均匀，资产配备了监测和调整沉积参数的工艺控制模型。该设备还提供了目标的选择（耐火、合金、陶瓷和复合材料），允许灵活沉积各种薄膜类型。昭和SHINKU SIA 3000最大的优点之一就是其易用的操作系统。它具有用户友好的图形用户界面，简化了设置过程，便于编程沉积参数。此外，其综合的倾斜和旋转特性使基板在腔室中的适当定位变得容易，以达到理想的沉积剖面。总体而言，SIA 3000是物理气相沉积薄膜的绝佳选择。其广泛的特点，如其加热单元、除粒机、过程控制工具，使其成为一种可靠的资产，可以提供各种薄膜类型的精确一致的沉积。