二手 SKY TECH Nexda #293743695 待售
网址复制成功!
单击可缩放
ID: 293743695
晶圆大小: 8"
PVD Sputtering system, 8"
(4) Process chambers: Ti, AlN, TiW, Turbo
Pulse DC Power supply
(4) Dry pumps
(2) Cryo pumps
Chiller
PC Rack.
SKY TECH Nexda是一种尖端溅射设备,在各种研究和工业应用中为精确高效的薄膜沉积而设计。这个最先进的系统集成了先进的技术,在薄膜涂层工艺中提供卓越的性能、灵活性和可重复性。Nexda单元的核心是它的高真空室,它为将材料溅射到基板上提供了一个受控的环境,具有非凡的均匀性和纯度。该腔室配有由不同材料制成的多个靶子,允许广泛的材料组合和层结构沉积在基板上。SKY TECH Nexda机器的一个关键特点是其先进的目标索引工具,它能够在不打破真空的情况下实现不同目标之间的快速自动切换。此功能不仅提高了薄膜沉积工艺的效率,而且减少了停机时间并提高了整体生产率。该资产配备了一个精密的电源模块,允许精确控制溅射过程参数,如目标功率、基板偏置和气体流量。这种控制水平确保了沉积薄膜在厚度、成分、结构等方面满足特定要求,使得Nexda模型非常适合广泛的研究和工业应用。除了精确的控制能力外,SKY TECH Nexda设备还具有全面的监控和诊断系统,提供关键工艺参数的实时反馈。这使操作员能够密切监测薄膜沉积过程,并根据需要进行调整,以确保薄膜的一致性和高质量增长。该单元还包含一个多功能的基板支架,可以容纳各种尺寸和形状的基板,允许在样品制备和薄膜性能优化方面具有灵活性。基板支架的设计是旋转和倾斜,使薄膜在复杂的基板几何形状均匀沉积。为了进一步提高Nexda机器的性能,它配备了一个大容量抽油机,确保迅速和有效地疏散腔室,以达到并保持溅射过程所需的高真空水平。这种抽水设备对于减少污染和提高沉积薄膜的质量至关重要。SKY TECH Nexda模型由直观且用户友好的软件界面控制,使操作员能够轻松设置和监视溅射过程。软件界面提供了一系列预设沉积配方以及根据特定需求创建自定义配方的灵活性。总之,Nexda溅射设备是一种功能强大、用途广泛的薄膜沉积工具,为广泛的研究和工业应用提供了先进的特点、精确的控制和灵活性。其卓越的性能、效率和可重复性使其成为要求苛刻的薄膜涂层工艺的首选系统。
还没有评论