二手 SPUTTERED FILMS INC / SFI Endeavor #9255519 待售
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ID: 9255519
Sputtering system
Substrate heating: 100°C
Capable of 20 wafers
(3) Chambers:
Configured for multiple wafers, 4"
Chamber 1:
AC Sputtering of Si, SiN, SiO2, AlN, Al2O3 films
AlN rate: ~4.5 nm/min
Al2O3: ~6 nm/min
SiO2 rate: ~4.5 nm/min
Chamber 2:
DC Sputtering of Ti, TiN, TiO2, W and W-Oxides
Ti rate: ~200 nm/min
Chamber 3:
DC Sputtering of Al or Au, RF back sputtering with Argon
Al Dep rate ~300-400 nm/min.
Sputtering Films Inc （SFI） SPUTTERED FILMS INC/SFI Endeavor是为快速薄膜沉积而设计的强大而紧凑的溅射系统。SFI Endeavor采用集成的垂直设计,能够为薄膜沉积提供低成本和高效的选择。溅射是半导体等工业中使用的一种技术，允许一层薄薄的材料沉积在基板上。SPUTTERED FILMS INC Endeavor结合了最新的溅射技术，提供适合多种应用的高性能和精密沉积。凭借其单一、集成的磁控管源，它能够溅射各种形状和大小的各种金属和其他材料。自动控制器驱动基板的旋转和移动，从而更好地控制沉积过程。加热的样品室允许先进的温度控制，也允许系统保持一致的过程环境。Endeavor配备了多种配件，以满足用户的需求。它与多种不同的基板夹紧技术，以及多个样品持有者兼容。它还可以接受大量可选的腔室组件，以获得额外的工艺多功能性，如溅射、源旋转和可调性，同时支持手动和自动操作。此外，SPUTTERED FILMS INC/SFI Endeavor可以适应几种工艺气体，允许各种溅射工艺。SFI Endeavor还支持流程自动化，允许用户快速编程所需的溅射参数，以减少批次之间的差异。综上所述，SPUTTERED FILMS INC奋进溅射系统是一种功能强大、用途广泛的薄膜沉积解决方桉。它能够对各种材料进行高精度溅射，并支持多种工艺气体，具有更大的灵活性。其自动控制器和加热的样品室使沉积过程的设置和监测变得容易。凭借多种定制配置选项,Endeavor可以满足各种需求,并提供低成本的溅射解决方桉。
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