二手 TEL / TOKYO ELECTRON / NEXX Nimbus 314 #9206551 待售

TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Nimbus 314（一种溅射设备）来自TEL（NEXX），是一种可自订且高度配置的溅射系统，旨在以低成本製造高品质薄膜。TEL Nimbus 314利用了由三个独立目标组成的三板设计，允许用户同时溅射多个晶胞或金属。溅射膜还可以针对电阻、结晶度、润湿特性等特性进行精确调谐，让用户创造出符合其精确要求的独特精准膜。NEXX Nimbus 314利用独特的磁密闭等离子体源，在目标腔室中产生比其他溅射系统更高浓度的离子。这导致更高的沉积速率和更大的均匀性在溅射膜，减少污染的可能性，使其成为理想的大体积应用。磁密闭等离子体源也允许Nimbus 314处理广泛的目标材料，从贵金属到合金和半导体材料。TOKYO ELECTRON Nimbus 314旨在最大限度地提高效率和灵活性。它有一个可调节的供应单元，可以配置为提供各种电压和基板，以确保目标材料被有效和一致地溅射。它还具有可用于精确角度调整的角度不变离子枪，以及用于增加可用溅射面积和定心精度的可调入射角。TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX Nimbus 314还具有直观、易于操作的用户界面，使其成为有经验的专业人士和新用户的理想选择。它还配备了一套用于监控胶片增长的工具，以及用于调整各种参数以实现最大效率和可重复性的自动化流程。此外，该机器还内置了安全功能，旨在保护用户免受意外接触溅射材料的伤害。综上所述，来自TOKYO ELECTRON的TEL Nimbus 314 （TEL/TOKYO ELECTRON/NEXX）是一款配置性强、效率高的溅射工具，旨在获得最佳性能和优越的薄膜质量。它提供了高度的灵活性，允许用户定制他们的影片，以满足他们的确切要求。这一资产利用强大的磁密闭等离子体源产生浓度更高、覆盖范围更均匀的离子，从而产生更一致的沉积速率和更高质量的薄膜生长。此外，它还配备了全面的用户界面和各种自动化流程，以提高效率和安全性。