二手 TEL / TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVD #9212338 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVD（物理气相沉积）是一种溅射设备，设计用于瞄准多种材料和用途。这种最先进的仪器具有高精度技术，允许改进工艺能力。该溅射系统采用TEM（薄膜电子乘法器单位）设计。这台机器允许自动校正输入数据错误，同时保持等离子体的准确性。这一特性允许提高工艺产量，从而产生质量更好的电极产品。PVD还采用了独特的高纵横比腔室设计。这种设计在提高过程均匀性的基础上提供了室内大气动力学的最佳控制。腔室设计还方便了更快的溅射时间，让客户最大限度地提高批量产量和吞吐量。TEL Nexx Nimbus PVD提供了广泛的可交换多个电极范围。此功能为客户提供了选择电极的灵活性。这些电极可以定制以满足其特定需求，让客户针对不同的材料优化自己的特定工艺。TOKYO ELECTRON Nexx Nimbus PVD也有集中式操作控制面板。此功能允许轻松查看操作状态,并允许实时诊断。这允许用户执行快速诊断和故障排除,从而最大限度地减少停机时间并最大限度地提高吞吐量。此外，Nexx Nimbus PVD还具有各种工艺选择，包括：氧化、氮化、离子植入、蚀刻和扩散。这种多功能性使客户能够轻松调整流程以获得最佳结果。综上所述，TEL/TOKYO ELECTRON NEXX Nimbus PVD是一种最先进的溅射工具，提供增强的精度和控制。这一尖端资产具有独特的腔室设计、多个可交换电极以及一系列工艺选项。所有这些特性都可以提高产量和生产优质产品。