二手 TEL / TOKYO ELECTRON PDU-MKIV #9226264 待售

TEL/TOKYO ELECTRON PDU-MKIV溅射设备是一种多功能装置，设计用于在多种基板上沉积薄膜。该溅射系统采用平行板磁控管（PPM）溅射技术，利用两个静态磁体产生电离等离子体。然后，该等离子体用于为沉积过程提供均匀的定向物料来源。TEL PDU-MKIV拥有无质量基板支架，内置RF（射频）功率控制，以及多气体喷射单元。本机最多可容纳三个溅射源，其中一个源专用于旋转溅射源。其先进的技术和坚固的结构确保了清洁、一致的结果和可重复的准确性。TOKYO ELECTRON PDU-MKIV有四个独立的工艺室，以确保清洁的工作环境。第一个腔室装有一个转盘，可以处理直径达300毫米的基板，利用晶圆提升机构来装卸基板。第二室装有一个具有压力反馈控制的反污染工具，用于减少或消除来自颗粒或其他非监测气体的污染。第三室装有溅射源，所需材料在真空室中蒸发。用户可以控制溅射过程的速率和能量，以产生所需的膜厚度和组成。最后的腔室容纳沉积工具，其中铝合金、钼、钨等金属被加热熔化，直至在基板表面形成均匀均匀的薄膜。PDU-MKIV配备了先进的诊断工具和数据分析软件，以方便对资产规格和溅射过程进行快速和健全的调查。该车型还配备了多种人性化的安全功能，如真空违约报警和安全互锁。总之，TEL/TOKYO ELECTRON PDU-MKIV是一种通用的溅射设备，能够以可重复的精度将薄膜精确沉积在各种基板上。它配备了高级诊断工具和数据分析软件,以确保用户能够在需要时快速调查和排除系统故障。