二手 TOKUDA CFS-4ES #9254477 待售

TOKUDA CFS-4ES是为大规模生产薄膜沉积而设计的高性能溅射设备。该产品以其多才多艺的特点和先进的技术量身定制，以满足客户的工业需求。溅射系统能够同时运行四个气动源，保证了过程的一致，大大提高了生产效率。该机配备了功能强大的4源直流磁控管溅射电源，可为每个源提供高达2000瓦的溅射功率。它与一个自动控制单元相结合，可以精确调整压力、比例、沉积目标几何形状和溅射速度。CFS-4ES由多种组件组成，例如一个先进的腔室，该腔室设有光学透明的石英窗和一个扫描电子显微镜，用于观察溅射过程。它的真空室还有一个集成的测温机和一个低温工具来控制基板的温度。此外，它还具有启动和停止功能，有助于防止低温沉积造成的污染。TOKUDA CFS-4ES还提供了广泛的沉积材料，包括金属、氧化物、氮化物、聚合物、合金等。这使得它可以用于介电材料、光学涂层、催化涂层、硬磨损涂层和储能装置等多种应用。该资产支持直径从25毫米到300毫米的各种工艺和基板尺寸,并具有浮动基板支架,可确保基板和溅射目标之间的最佳接触。此外，该机器易于操作，并配有一个用户友好的控制软件，用户可以方便地监控和校准过程。此外，CFS-4ES包括一个后处理模型，确保底物在从溅射过程中释放之前得到充分处理。这有助于确保基材的质量在过程中不会受到损害，并允许材料的均匀沉积。综上所述，TOKUDA CFS-4ES溅射设备是一种先进的溅射系统，可用于薄膜沉积的生产。它能够支持广泛的材料和流程，其用户友好的控制软件使其易于操作和监控。此外，它的后处理单元确保基材的质量不会在过程中受到损害。