二手 TOUSIMIS Automegasamdri 916B #9164943 待售

TOUSIMIS Automegasamdri 916B是一种紧凑、高性能的溅射设备,非常适合用于薄膜沉积。它配备了大功率直流磁控管溅射源，可以在大样本量上产生高度均匀的薄膜沉积。溅射源还配备了磁场编程快门系统，它允许基板的快速和可重复的模式，而无需物理掩模。磁控管源能够同时运行多个溅射过程，与大多数气体屏蔽阴极兼容。Automegasamdri 916B还具有一个可编程为自动控制的远程控制单元。通过该机，用户可以轻松监控和调整目标偏置电压、气流、溅射时间等沉积参数。该工具还可以远程操作，并配备坚固的安全资产，在操作过程中保护操作员和设备。除了强大的溅射源外，TOUSIMIS Automegasamdri 916B还配备了先进的基板转移模型。该设备提供快速准确的基板定位，以便在厚度、均匀性、附着力和蚀刻速率等方面优化溅射。该系统还具有数字位置检测功能，可以精确定位基板，确保对溅射过程的精确控制。Automegasamdri 916B配备了高效冷却装置。这台机器有助于保持溅射温度水平，以尽量减少颗粒污染，提高溅射源的寿命。此外，冷却工具可以调整，使各种基板的可靠处理。总体而言，TOUSIMIS Automegasamdri 916B是高性能薄膜沉积应用的绝佳选择。该模型具有快速、精确的基板传输资产、先进的安全系统和高效的冷却能力，非常适合各种沉积过程。