二手 TOUSIMIS Samsputter IIA #126410 待售

TOUSIMIS Samsputter IIA是一种PVD（物理气相沉积）溅射设备，广泛用于生产薄膜涂层，用于多种工业和科学应用。Samsputter IIA与DC、Pulse DC和RF溅射等多种PVD工艺配合部署,可将多种材料沉积到基板上。它被设计为与广泛的等离子体蚀刻工艺结合使用，以生产多种先进材料。TOUSIMIS Samsputter IIA能够产生超过0.8 μ m/min的沉积速率,并能精确控制涂层的厚度和质量。它具有低真空设计，能够维持高达0.5 Pa的疏散水平，而不会降低薄膜沉积的质量。先进的设计还可以使涂层厚度在整个基板上保持出色的均匀性和一致性。该系统配备了先进的电子封装，包括嵌入式基于Arduino的处理单元和直观的图形用户界面（GUI）。这样可以对沉积速率、目标压力、沉积温度等参数进行精确的编程和控制。内置传感器还提供有关沉积膜质量的反馈。为了确保一致、可重复的结果，Samsputter IIA配备了高功率关机开关和滤波器完整性监控等高级安全功能。此外,由于其模块化设计,它易于与现有的PVD流程和系统集成。此外，TOUSIMIS Samsputter IIA还设计用于容纳各种基材和薄膜。增强的石墨基板、陶瓷膜和氧化膜只是使用这台机器可以沉积的几种材料。总体而言，Samsputter IIA是一种先进的高质量溅射工具，可用于广泛的行业和科学应用。它易于使用和配置，其先进的特点使其成为生产薄膜涂料的理想选择。