二手 TOUSIMIS Samsputter IIA #141766 待售

TOUSIMIS Samsputter IIA是一种多功能的溅射设备，专为各种薄膜沉积需求而设计。该系统结合了两把溅射枪，其中一系列材料可以溅射，而定向离子束则细化了薄膜的形状。这样可以精确控制被沉积薄膜的厚度和组成。Samsputter IIA有广泛的工艺参数可以调整。其工作温度范围在25°C至75°C之间，薄膜的处理时间为0.1至15秒。离子源可以在30瓦至1000瓦的直流或射频功率下运行，为适应各种沉积过程提供了灵活性。两支溅射炮装有多种可以容纳一系列沉积品质和铝、铬、硅、钛等底物的目标。TOUSIMIS Samsputter IIA还配备了一个下腔，允许在沉积过程中使用氮气、氙气、甲烷等工艺气体。这有助于提高薄膜的稳定性，可用于反应性溅射过程。Samsputter IIA有多种参数可以通过压力表和监控器指示，从而可以精确控制沉积过程。它还有一个冷却的下倾角控制器，具有可变温度设置范围，可以调整以优化沉积条件。除了用户友好的控制面板之外，TOUSIMIS Samsputter IIA内置了多种安全功能。它配有紧急停止按钮、电源故障保护和离子源监控单元,如果机器在预设参数之外工作,则会向操作员发出警报。Samsputter IIA操作简单、可靠，能够满足各种薄膜沉积需求。它坚固的结构和高性能的特点使它成为那些需要可靠溅射工具的人的绝佳选择。