二手 ULVAC (5) Chambers for sputtering system #293636262 待售

ULVAC (5) Chambers for sputtering system
ID: 293636262
晶圆大小: 12"
12".
用于溅射设备的ULVAC(超低真空)腔室是一种用于多种工业应用的高性能、多腔室系统。该装置通常用于生产溅射膜、涂层材料和电化学蚀刻等工艺。ULVAC机由三个主腔室组成。第一,主室用作储藏室和运输室。这个腔室可以被疏散到10-7百帕的非常低的压力,允许在一个受控的环境中储存和运输加工材料。这种低压条件还允许有效的溅射过程和在基板上生成涂层。其次是磁控管腔室,是磁控管溅射沉积过程中使用的封闭式腔室。封闭式腔室允许磁控管的完全密封。这个腔室在10-5 hPa的真空中操作,可以为特定的工艺要求配备多种磁铁。第三室,反应室,用于化学气相沉积(CVD)过程。该腔室采用10-4 hPa的真空,一般装有多喷嘴沉积工具,以确保在整个基板上达到均匀的涂层厚度。ULVAC分庭还包括一系列技术特点。磁控管室特别配备了离子源和气体出口,从而提高了对沉积过程的控制水平。此外,资产还包括高级监控模型和数据记录功能,使操作员能够监控流程并确保安全运行。此外,该设备还设计为模块化系统,允许进行各种流程配置以满足特定需求。这使得高真空蒸发、共蒸发、激光划线等过程得以进行。总而言之,用于溅射装置的ULVAC室是几个行业的工业和实验室应用的理想选择。尽管它的复杂性,机器易于使用,可靠和设计高效生产。利用先进的技术和最新的设计特点,ULVAC商会可以为先进的工业和科学应用提供一个安全、可靠和高效的程序。
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