二手 ULVAC Ceraus Z-1000 #9053697 待售

ULVAC Ceraus Z-1000是为薄膜沉积工艺设计的溅射设备。该系统通常用于研究和生产环境，使用磁控管溅射技术将金属薄膜或其他材料的薄膜沉积在基板上。这项技术非常适合于制造铝、铵、全新、钛、铬、钴、铂、氙和钨的薄层，涂层厚度从10nm到1000nm不等。Ceraus Z-1000装置配有一个提供宽敞工作空间的溅射室和一个提供高水平污染控制的钟罩密封机器。采用开放式腔室设计，便于基板装载，采用闭环冷却水工具，确保工艺温度稳定。它还配备了经过严格设计的内部气体控制资产，以可靠地监测和调节压力。该模型利用安装在溅射室中的两个阴极，每个阴极都有多个磁控管线圈。阴极连接RF和DC电源，允许独立控制腔内的正负离子。这使得不同溅射材料的选择性沉积和材料的组合形成2层到5层的薄膜。设备还可以创建串联和多层结构。在真空方面，系统运行在1x10-4到1x10-6Pa的范围内，有一个主泵机，一个涡轮分子泵，一个固定板管和前泵选项。在外侧，先进的自动化界面提供了从远处轻松的控制、监控和操作。该机还提供了工艺参数的数据和软件控制,如首选涂层厚度、停留时间、泵速、泵时和浮动电压。ULVAC Ceraus Z-1000是一种具有集成腔室设计的中真空溅射工具。沉积速率高，工艺控制精密，薄膜沉积质量高。它非常适合研究和生产对薄膜成分、薄膜性能和基材尺寸有严格要求的高精度薄膜。