二手 ULVAC Ceraus Z-1000 #9083925 待售

ULVAC Ceraus Z-1000是为薄膜沉积设计的先进溅射设备。它是一个小巧、高性能的系统,采用了新的溅射源设计,可实现高溅射速率、改进的沉积均匀性和更高的速率吞吐量。溅射源采用先进的直流电磁控管溅射技术，具有较高的沉积速率，具有良好的均匀性和薄膜轮廓。此外，该装置还采用了精密的温度和压力控制，提供了出色的工艺控制和可重复性。Ceraus Z-1000具有强大的计算机对准控制机器,可自动控制诸如电压、压力、气流和基板温度等溅射参数。这确保了各种不同薄膜材料的最佳沉积。该工具包括一个具有5区加热能力的T/E蓝宝石FE高温反应堆（HTR），一个功率为12千瓦的高功率密度直流电子回旋共振（ECR）源，以及一个完全集成的正常和高真空泵单元。ULVAC Ceraus Z-1000资产非常适合许多薄膜应用。可用于金属、半导体、介电、有机/光刻胶膜的沉积。它最多支持四个示例,这些示例可以以正方形或圆形配置同时加载。该模型具有高达107 angström/s的快速溅射速率,能够快速高效地生产出高质量的薄膜。此外，Ceraus Z-1000还具有先进的诊断能力，包括现场X射线分析以及光学和电子显微技术。该设备还包括集成的AutoTuneTM软件，允许对溅射过程进行简化优化。该系统能够简单直观地控制所有工艺参数，确保沉积工艺的可重复性和可重复性。ULVAC Ceraus Z-1000是薄膜沉积工艺的理想工具。它具有紧凑的设计和强大的计算机对齐控制单元，提供出色的过程控制和可重复性。凭借其高溅射速率、高功率电子回旋共振（ECR）源以及原位诊断能力，Ceraus Z-1000为满足任何薄膜沉积项目的需求提供了极大的灵活性。