二手 ULVAC Ceraus Z-1000 #9156845 待售

ULVAC Ceraus Z-1000是一种用于蚀刻和沉积薄膜材料的多功能溅射设备。该Z-1000配备了各种组件和功能,可以实施各种材料和过程。提供高速率均匀性，可重复性± 2%，显着的层均匀性，相对方差<2%。该系统广泛应用于半导体和光电工业，用于氧化物、氮化物、导电金属膜以及金属如铜、金、铝合金在基板上的沉积。溅射单元利用逐块直流蚀刻获得面积覆盖均匀的高清薄膜。它具有低温溅射过程，可以对沉积速率和均匀性进行高度精确的控制。该Z-1000还具有最佳溅射所必需的高真空，并包括一个离子电源，以提供精确的控制粒子与基板的轰击。该Z-1000能够沉积金属、合金和氧化物，可以加工多种基材，包括硅、石英、石英衬里玻璃等等。它允许1 x 10-5至8 x 10-1 hPa的可调压力范围，并且可以提供10-200V dc的最大底物偏差。该机具有9英寸到12英寸的晶圆取向，允许使用各种晶圆尺寸。它还具有在2°C和130°C之间的温度控制， 以及50-550 W. Ceraus Z-1000的溅射功率范围，其工作距离为360 mm，用于同时装卸基板， 并配有欧瑞康Leybold干泵，可达到<4x10-7 Pa的最大真空水平。此外， 该工具带有自动晶片装载机和负载锁，可简化和自动装卸基板。基于Windows的集成软件可以监视和记录所有与处理相关的数据，并帮助优化必要的参数，如基板温度、溅射功率、转速等等。该软件还允许客户设置和存储多个处理条件供以后使用。总体而言，ULVAC Ceraus Z-1000溅射资产是为在基板上蚀刻和沉积薄膜而设计的，用途广泛，足以管理各种材料和工艺。其先进的特点，包括低温处理、可调真空水平和自动基板载荷，使Z-1000成为溅射沉积和蚀刻氧化物、金属和合金的理想选择。