二手 ULVAC Ceraus Z-1000 #9400323 待售

ULVAC Ceraus Z-1000是一种溅射设备，设计用于将金属和绝缘体薄膜以精确控制的厚度沉积在一系列基板上。该系统由一个离子源、一个腔室和一系列无烃泵送口组成。离子源由射频发生器供电，为均匀溅射提供高密度离子。腔室由铝或不锈钢制成，温度控制在± 2°C以内。在目标驱动器上安装了一系列水冷目标，目标预先涂上一种ConAg溶液，以防止除气和尽量减少污染。该Z-1000采用单极磁控管溅射工艺，永磁体具有强大的磁场，确保薄膜在整个晶片上均匀沉积。腔内的组分相互隔离，以确保离子源和沉积过程之间没有干扰。气体入口、外部气源和气体质谱仪的可调配置允许精确控制压力和气流等工艺参数。该Z-1000还设有一个现场监测单位，对沉积过程进行实时分析。本机记录膜的轮廓、沉积速率等数据。根据预期结果对薄膜特性进行沉积后分析，而不必停止该过程。Ceraus Z-1000是一种高度精确的溅射工具，采用先进的等离子体技术来实现均匀的薄膜沉积。它提供了对工艺参数的精确控制，并提供了对沉积工艺的精确控制的现场监测。该资产适用于各种基材上的一系列金属和绝缘体。该Z-1000是用于研究和设备应用的高效工具。