二手 ULVAC CERAUS ZI 1000 #9207442 待售

ULVAC CERAUS ZI 1000是一种先进的溅射设备，设计用于沉积用于半导体、MEMS和厚膜应用的薄膜。该系统是为精确的层控制和均匀性而设计的，可以达到厚度精度降低到一个纳米。该单元由水平源、接地靶和用于气体和真空控制的涡轮分子泵组成。水平源由两门独立的磁控管枪和一件式陶瓷氟聚合物基板组成，能够遵循预先确定的沉积剖面。目标是安装在绝缘陶瓷底座上的导电铜或铝板。气体压力由涡轮分子泵维持在溅射室。溅射过程本身是物理气相沉积（PVD）过程，涉及将气体电离，在沉积室中生成等离子体。该等离子体用于使工作气体中的离子高速撞击目标，向底物释放原子。通过控制溅射源的功率，可以控制沉积物料的数量及其原子结构。ULVAC CERAUS ZI-1000提供了许多功能,使其非常适合薄膜的沉积。它对每个溅射源都有独立的快门机构，可以精确控制沉积。它还为每个源提供了一个可预编程的剖面，从而在整个基板上实现了均匀沉积。它还具有先进的定向感应机，使其能够自动调整溅射源的位置，以确保目标接收到尽可能高的功率密度。另外，溅射工具有膜厚度监视器，可以精确控制层厚度。它还有一个电离监测资产，提供有关等离子体形成过程的实时反馈。最后，模型采用了先进的算法来保证均匀层在基板上的沉积。CERAUS ZI 1000是用于半导体、MEMS和厚膜应用的溅射薄膜的理想选择。其先进的特性使其适合实现精确的层控制和均匀性，而直观的工程界面则使其使用简单。该系统具有精确的厚度测定和精密的方向感应设备，可确保薄膜沉积的精确、一致的结果。